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Gás precursor nas aplicações de tratamento de superfície CVD, gás de cilindro hexafluoreto de tungstênio

Gás precursor nas aplicações de tratamento de superfície CVD, gás de cilindro hexafluoreto de tungstênio

MOQ: 1 peça
preço: US $ 15/PC
Embalagem padrão: cilindro/tanque
Período de entrega: 15 dias
Método do pagamento: L/C, T/T
Capacidade de abastecimento: 200 toneladas/ano
Informações detalhadas
Lugar de origem
China
Marca
CMC
Certificação
COA
Número do modelo
Wf6
Nome do produto:
Hexafluoreto de tungsténio
Transportes:
Por mar
Classe DOT:
2.3
Purificação:
99.999%
Número do modelo.:
Hexafluoreto de tungsténio
Pacote de transporte:
Transporte do mar
Especificações:
10 L/15 kg
Marca comercial:
CMC
Origem:
Suzhou, China
Cas não.:
7783-82-6
Fórmula:
Wf6
EINECS:
232-029-1
Constituinte:
Ar puro industrial
Padrão de classificação:
Grau industrial
Propriedade química:
Gás de apoio à combustão
Personalização:
Disponível
Quantidade de ordem mínima:
1 peça
Preço:
US $ 15/PC
Detalhes da embalagem:
cilindro/tanque
Tempo de entrega:
15 dias
Termos de pagamento:
L/C, T/T
Habilidade da fonte:
200 toneladas/ano
Destacar:

Gás precursor de tratamento de superfície de CVD

,

Hexafluoreto de tungstênio de gás de cilindro

,

Gás precursor de hexafluoreto de tungsténio

Descrição do produto

Gás precursor em aplicações de tratamento de superfície do CVD Gás cilindro Hexafluoreto de tungstênio

O hexafluoreto de tungstênio (WF6) é um composto químico composto por um átomo de tungstênio e seis átomos de flúor.O hexafluoreto de tungstênio é altamente reativo e pode reagir violentamente com água ou humidade no ar, liberando gás tóxico fluoreto de hidrogénio.

As aplicações do hexafluoreto de tungstênio incluem a sua utilização como precursor para o depósito de películas de tungstênio em processos de fabricação de semicondutores.É comumente usado em técnicas de deposição química de vapor (CVD) para criar filmes finos de tungstênio para várias aplicaçõesO hexafluoreto de tungstênio é preferido nestes processos devido à sua alta pressão de vapor, que permite uma deposição eficiente.

No entanto, é importante manipular e armazenar o hexafluoreto de tungsténio com precaução devido à sua reactividade e toxicidade.incluindo a utilização de equipamentos de protecção e procedimentos de manuseio adequados, devem ser seguidas ao trabalhar com este composto.

Informações básicas.
O COA do produto:
 
Elementos de ensaio Unidades Requisitos de qualidade Resultados dos ensaios
CF4 ppm < 0.5 < 0.01
O2 ppm < 0.5 < 0.01
N2 ppm < 1 0.03
CO ppm < 0.5 < 0.02
CO2 ppm < 0.5 < 0.01
SiF4 ppm < 0.5 < 0.1
SF6 ppm < 0.5 < 0.1
HF ppm < 5 0.19
Al ppb ≤ 10 < 0.020
Como ppb ≤ 10 < 0.001
B ppb ≤ 10 < 0.005
Ca ppb ≤ 5 < 0.200
Cd ppb ≤ 2 < 0.001
Cr ppb ≤ 10 < 0.020
Fe ppb ≤ 10 < 0.007
K ppb ≤ 5 < 0.100
- Não ppb ≤ 10 < 0.001
Não. ppb ≤ 5 < 0.040
- Não. ppb ≤ 0.1 < 0.001
Ti ppb ≤ 10 < 0.002
Li ppb ≤ 10 < 0.002
U ppb ≤ 0.05 < 0.001
Zn ppb ≤ 10 < 0.005
Sim ppb ≤ 10 < 0.100
Pb ppb ≤ 10 < 0.001
P ppb ≤ 2 < 0.300
Mg ppb ≤ 10 < 0.020
Não. ppb ≤ 20 < 0.030
Cu ppb ≤ 5 < 0.005
Mo. ppb ≤ 10 < 0.001
Impuridades totais de outros metais ppb ≤ 500 < 0.0010
Especificações do produto:

GAS de hexafluoreto de tungstênio WF6
Número CAS: 7783-82-6
EINECS n.o: 232-029-1
Número da ONU: UN2196
Pureza: 99,999%
Classe de pontos: 2.3
Aparência: incolor
Padrão de grau: grau de elétron, grau industrial

Foto detalhada
                                   Gás precursor nas aplicações de tratamento de superfície CVD, gás de cilindro hexafluoreto de tungstênio 0
 
Perfil da empresa

Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas

Shanghai Kemike Chemical Co., Ltd é composta por pessoal treinado, combinar muitos anos de experiência na indústria de gás.Nós fornecemos cilindro de gás, gás eletrônico, etc. e o suporte de gás, painel,Válvulas e acessórios e outros equipamentos, peças e serviços de engenharia para os nossos clientes na China e em todo o mundo; Os produtos estão envolvidos em vários campos industriais, tais como chips de semicondutores, células solares, LED, TFT-LCD, fibra óptica,vidroA nossa missão é colaborar com os nossos clientes globais para fornecer apoio, soluções e produtos de qualidade que sejam inovadores, fiáveis e seguros.
Os nossos produtos incluem principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetileno, hélio, gás misto a laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gás misto dopante (TMB, PH3,B2H6) e outros gases electrónicos.
Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas
Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas
 
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Detalhes dos produtos
Gás precursor nas aplicações de tratamento de superfície CVD, gás de cilindro hexafluoreto de tungstênio
MOQ: 1 peça
preço: US $ 15/PC
Embalagem padrão: cilindro/tanque
Período de entrega: 15 dias
Método do pagamento: L/C, T/T
Capacidade de abastecimento: 200 toneladas/ano
Informações detalhadas
Lugar de origem
China
Marca
CMC
Certificação
COA
Número do modelo
Wf6
Nome do produto:
Hexafluoreto de tungsténio
Transportes:
Por mar
Classe DOT:
2.3
Purificação:
99.999%
Número do modelo.:
Hexafluoreto de tungsténio
Pacote de transporte:
Transporte do mar
Especificações:
10 L/15 kg
Marca comercial:
CMC
Origem:
Suzhou, China
Cas não.:
7783-82-6
Fórmula:
Wf6
EINECS:
232-029-1
Constituinte:
Ar puro industrial
Padrão de classificação:
Grau industrial
Propriedade química:
Gás de apoio à combustão
Personalização:
Disponível
Quantidade de ordem mínima:
1 peça
Preço:
US $ 15/PC
Detalhes da embalagem:
cilindro/tanque
Tempo de entrega:
15 dias
Termos de pagamento:
L/C, T/T
Habilidade da fonte:
200 toneladas/ano
Destacar

Gás precursor de tratamento de superfície de CVD

,

Hexafluoreto de tungstênio de gás de cilindro

,

Gás precursor de hexafluoreto de tungsténio

Descrição do produto

Gás precursor em aplicações de tratamento de superfície do CVD Gás cilindro Hexafluoreto de tungstênio

O hexafluoreto de tungstênio (WF6) é um composto químico composto por um átomo de tungstênio e seis átomos de flúor.O hexafluoreto de tungstênio é altamente reativo e pode reagir violentamente com água ou humidade no ar, liberando gás tóxico fluoreto de hidrogénio.

As aplicações do hexafluoreto de tungstênio incluem a sua utilização como precursor para o depósito de películas de tungstênio em processos de fabricação de semicondutores.É comumente usado em técnicas de deposição química de vapor (CVD) para criar filmes finos de tungstênio para várias aplicaçõesO hexafluoreto de tungstênio é preferido nestes processos devido à sua alta pressão de vapor, que permite uma deposição eficiente.

No entanto, é importante manipular e armazenar o hexafluoreto de tungsténio com precaução devido à sua reactividade e toxicidade.incluindo a utilização de equipamentos de protecção e procedimentos de manuseio adequados, devem ser seguidas ao trabalhar com este composto.

Informações básicas.
O COA do produto:
 
Elementos de ensaio Unidades Requisitos de qualidade Resultados dos ensaios
CF4 ppm < 0.5 < 0.01
O2 ppm < 0.5 < 0.01
N2 ppm < 1 0.03
CO ppm < 0.5 < 0.02
CO2 ppm < 0.5 < 0.01
SiF4 ppm < 0.5 < 0.1
SF6 ppm < 0.5 < 0.1
HF ppm < 5 0.19
Al ppb ≤ 10 < 0.020
Como ppb ≤ 10 < 0.001
B ppb ≤ 10 < 0.005
Ca ppb ≤ 5 < 0.200
Cd ppb ≤ 2 < 0.001
Cr ppb ≤ 10 < 0.020
Fe ppb ≤ 10 < 0.007
K ppb ≤ 5 < 0.100
- Não ppb ≤ 10 < 0.001
Não. ppb ≤ 5 < 0.040
- Não. ppb ≤ 0.1 < 0.001
Ti ppb ≤ 10 < 0.002
Li ppb ≤ 10 < 0.002
U ppb ≤ 0.05 < 0.001
Zn ppb ≤ 10 < 0.005
Sim ppb ≤ 10 < 0.100
Pb ppb ≤ 10 < 0.001
P ppb ≤ 2 < 0.300
Mg ppb ≤ 10 < 0.020
Não. ppb ≤ 20 < 0.030
Cu ppb ≤ 5 < 0.005
Mo. ppb ≤ 10 < 0.001
Impuridades totais de outros metais ppb ≤ 500 < 0.0010
Especificações do produto:

GAS de hexafluoreto de tungstênio WF6
Número CAS: 7783-82-6
EINECS n.o: 232-029-1
Número da ONU: UN2196
Pureza: 99,999%
Classe de pontos: 2.3
Aparência: incolor
Padrão de grau: grau de elétron, grau industrial

Foto detalhada
                                   Gás precursor nas aplicações de tratamento de superfície CVD, gás de cilindro hexafluoreto de tungstênio 0
 
Perfil da empresa

Semiconductor Industry Electronic Grade Wf6 Tungsten Hexafluoride Wf6 Gas

Shanghai Kemike Chemical Co., Ltd é composta por pessoal treinado, combinar muitos anos de experiência na indústria de gás.Nós fornecemos cilindro de gás, gás eletrônico, etc. e o suporte de gás, painel,Válvulas e acessórios e outros equipamentos, peças e serviços de engenharia para os nossos clientes na China e em todo o mundo; Os produtos estão envolvidos em vários campos industriais, tais como chips de semicondutores, células solares, LED, TFT-LCD, fibra óptica,vidroA nossa missão é colaborar com os nossos clientes globais para fornecer apoio, soluções e produtos de qualidade que sejam inovadores, fiáveis e seguros.
Os nossos produtos incluem principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetileno, hélio, gás misto a laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gás misto dopante (TMB, PH3,B2H6) e outros gases electrónicos.
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