|
| MOQ: | 1 peça |
| preço: | US $ 15/PC |
| Embalagem padrão: | cilindro/tanque |
| Período de entrega: | 15 dias |
| Método do pagamento: | L/C, T/T |
| Capacidade de abastecimento: | 200 toneladas/ano |
O gás hexafluoreto de tungstênio, também conhecido como WF6, é um composto químico composto por um átomo de tungstênio e seis átomos de flúor.O hexafluoreto de tungstênio é usado principalmente na indústria de semicondutores para a deposição de películas finas de tungstênio durante o fabrico de circuitos integrados e outros dispositivos eletrônicos.
Aqui estão alguns pontos-chave sobre o gás hexafluoreto de tungstênio:
Deposição de filmes de tungstênio: o hexafluoreto de tungstênio é amplamente utilizado como gás precursor em processos de deposição química de vapor (CVD) para depositar filmes finos de tungstênio.Estas películas servem como camadas condutoras na fabricação de dispositivos microeletrônicos, tais como transistores, interconexões e eletrodos de porta.
Alta pureza e estabilidade: o gás WF6 está tipicamente disponível em graus de alta pureza para garantir a qualidade e a integridade das películas de tungstênio depositadas.permitindo um crescimento controlado e uniforme da película em condições específicas de processo.
Processo CVD: Durante o processo CVD, o gás hexafluoreto de tungstênio é introduzido em uma câmara de deposição juntamente com um agente redutor, como o gás hidrogênio.As moléculas de WF6 decompõem-se a temperaturas elevadas, depositando átomos de tungsténio na superfície do substrato de forma controlada.
Considerações de segurança: O hexafluoreto de tungstênio é um gás altamente tóxico e corrosivo, que requer manuseio e armazenamento cuidadosos.Medidas de segurança adequadas, incluindo o uso de equipamento especializado e equipamento de protecção, são essenciais quando se trabalha com WF6.
Impacto ambiental: Como outros compostos fluorados, o hexafluoreto de tungstênio tem o potencial de contribuir para preocupações ambientais.São necessárias práticas cuidadosas de gestão e eliminação para evitar a sua liberação no ambiente.
É importante notar que o hexafluoreto de tungsténio é utilizado principalmente em aplicações industriais e especializadas e que o seu manuseamento requer conhecimentos especializados e a observância dos protocolos de segurança.
| Elementos de ensaio | Unidades | Requisitos de qualidade | Resultados dos ensaios |
| CF4 | ppm | < 0.5 | < 0.01 |
| O2 | ppm | < 0.5 | < 0.01 |
| N2 | ppm | < 1 | 0.03 |
| CO | ppm | < 0.5 | < 0.02 |
| CO2 | ppm | < 0.5 | < 0.01 |
| SiF4 | ppm | < 0.5 | < 0.1 |
| SF6 | ppm | < 0.5 | < 0.1 |
| HF | ppm | < 5 | 0.19 |
| Al | ppb | ≤ 10 | < 0.020 |
| Como | ppb | ≤ 10 | < 0.001 |
| B | ppb | ≤ 10 | < 0.005 |
| Ca | ppb | ≤ 5 | < 0.200 |
| Cd | ppb | ≤ 2 | < 0.001 |
| Cr | ppb | ≤ 10 | < 0.020 |
| Fe | ppb | ≤ 10 | < 0.007 |
| K | ppb | ≤ 5 | < 0.100 |
| - Não | ppb | ≤ 10 | < 0.001 |
| Não. | ppb | ≤ 5 | < 0.040 |
| - Não. | ppb | ≤ 0.1 | < 0.001 |
| Ti | ppb | ≤ 10 | < 0.002 |
| Li | ppb | ≤ 10 | < 0.002 |
| U | ppb | ≤ 0.05 | < 0.001 |
| Zn | ppb | ≤ 10 | < 0.005 |
| Sim | ppb | ≤ 10 | < 0.100 |
| Pb | ppb | ≤ 10 | < 0.001 |
| P | ppb | ≤ 2 | < 0.300 |
| Mg | ppb | ≤ 10 | < 0.020 |
| Não. | ppb | ≤ 20 | < 0.030 |
| Cu | ppb | ≤ 5 | < 0.005 |
| Mo. | ppb | ≤ 10 | < 0.001 |
| Impuridades totais de outros metais | ppb | ≤ 500 | < 0.0010 |
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| MOQ: | 1 peça |
| preço: | US $ 15/PC |
| Embalagem padrão: | cilindro/tanque |
| Período de entrega: | 15 dias |
| Método do pagamento: | L/C, T/T |
| Capacidade de abastecimento: | 200 toneladas/ano |
O gás hexafluoreto de tungstênio, também conhecido como WF6, é um composto químico composto por um átomo de tungstênio e seis átomos de flúor.O hexafluoreto de tungstênio é usado principalmente na indústria de semicondutores para a deposição de películas finas de tungstênio durante o fabrico de circuitos integrados e outros dispositivos eletrônicos.
Aqui estão alguns pontos-chave sobre o gás hexafluoreto de tungstênio:
Deposição de filmes de tungstênio: o hexafluoreto de tungstênio é amplamente utilizado como gás precursor em processos de deposição química de vapor (CVD) para depositar filmes finos de tungstênio.Estas películas servem como camadas condutoras na fabricação de dispositivos microeletrônicos, tais como transistores, interconexões e eletrodos de porta.
Alta pureza e estabilidade: o gás WF6 está tipicamente disponível em graus de alta pureza para garantir a qualidade e a integridade das películas de tungstênio depositadas.permitindo um crescimento controlado e uniforme da película em condições específicas de processo.
Processo CVD: Durante o processo CVD, o gás hexafluoreto de tungstênio é introduzido em uma câmara de deposição juntamente com um agente redutor, como o gás hidrogênio.As moléculas de WF6 decompõem-se a temperaturas elevadas, depositando átomos de tungsténio na superfície do substrato de forma controlada.
Considerações de segurança: O hexafluoreto de tungstênio é um gás altamente tóxico e corrosivo, que requer manuseio e armazenamento cuidadosos.Medidas de segurança adequadas, incluindo o uso de equipamento especializado e equipamento de protecção, são essenciais quando se trabalha com WF6.
Impacto ambiental: Como outros compostos fluorados, o hexafluoreto de tungstênio tem o potencial de contribuir para preocupações ambientais.São necessárias práticas cuidadosas de gestão e eliminação para evitar a sua liberação no ambiente.
É importante notar que o hexafluoreto de tungsténio é utilizado principalmente em aplicações industriais e especializadas e que o seu manuseamento requer conhecimentos especializados e a observância dos protocolos de segurança.
| Elementos de ensaio | Unidades | Requisitos de qualidade | Resultados dos ensaios |
| CF4 | ppm | < 0.5 | < 0.01 |
| O2 | ppm | < 0.5 | < 0.01 |
| N2 | ppm | < 1 | 0.03 |
| CO | ppm | < 0.5 | < 0.02 |
| CO2 | ppm | < 0.5 | < 0.01 |
| SiF4 | ppm | < 0.5 | < 0.1 |
| SF6 | ppm | < 0.5 | < 0.1 |
| HF | ppm | < 5 | 0.19 |
| Al | ppb | ≤ 10 | < 0.020 |
| Como | ppb | ≤ 10 | < 0.001 |
| B | ppb | ≤ 10 | < 0.005 |
| Ca | ppb | ≤ 5 | < 0.200 |
| Cd | ppb | ≤ 2 | < 0.001 |
| Cr | ppb | ≤ 10 | < 0.020 |
| Fe | ppb | ≤ 10 | < 0.007 |
| K | ppb | ≤ 5 | < 0.100 |
| - Não | ppb | ≤ 10 | < 0.001 |
| Não. | ppb | ≤ 5 | < 0.040 |
| - Não. | ppb | ≤ 0.1 | < 0.001 |
| Ti | ppb | ≤ 10 | < 0.002 |
| Li | ppb | ≤ 10 | < 0.002 |
| U | ppb | ≤ 0.05 | < 0.001 |
| Zn | ppb | ≤ 10 | < 0.005 |
| Sim | ppb | ≤ 10 | < 0.100 |
| Pb | ppb | ≤ 10 | < 0.001 |
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| Mg | ppb | ≤ 10 | < 0.020 |
| Não. | ppb | ≤ 20 | < 0.030 |
| Cu | ppb | ≤ 5 | < 0.005 |
| Mo. | ppb | ≤ 10 | < 0.001 |
| Impuridades totais de outros metais | ppb | ≤ 500 | < 0.0010 |
