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| MOQ: | 1 kg |
| preço: | US $500/kg |
| Embalagem padrão: | cilindro/tanque |
| Período de entrega: | 15 dias |
| Método do pagamento: | L/C, T/T |
| Capacidade de abastecimento: | 2000 toneladas/ano |
O gás NF3 refere-se ao trifluoreto de nitrogênio em seu estado gasoso.É comumente utilizado em várias aplicações industriais devido às suas propriedades únicasAqui estão alguns pontos-chave sobre o gás NF3:
Composição química: NF3 consiste de um átomo de nitrogênio (N) ligado a três átomos de flúor (F).
Propriedades físicas: O NF3 é um gás não inflamável com um ponto de ebulição de -129 graus Celsius (-200 graus Fahrenheit) e um ponto de fusão de -206 graus Celsius (-339 graus Fahrenheit).É ligeiramente mais densa que o ar e permanece em estado gasoso à temperatura ambiente e pressão atmosférica normal.
Utilizações: O gás NF3 tem várias aplicações industriais:
Fabricação de eletrônicos: É comumente usado na indústria eletrônica como agente de limpeza para remover resíduos de wafers de silício, câmaras,e outros componentes eletrónicos durante o processo de fabricoO gás NF3 é preferido devido à sua baixa reatividade com muitos materiais e à sua capacidade de remover de forma eficaz os compostos fluorados.
Gravação por plasma: O NF3 é utilizado como gravador de plasma na indústria de semicondutores.É usado para remover seletivamente materiais da superfície de wafers de silício e outros substratos durante a fabricação de microeletrônicos.
Fabricação de ecrãs de painel plano: O gás NF3 é também utilizado na produção de ecrãs de painel plano, como ecrãs de cristal líquido (LCD) e ecrãs de plasma.É usado para processos de limpeza e gravação durante a fabricação desses monitores.
Painéis solares: o NF3 encontra aplicação na produção de células fotovoltaicas de película fina utilizadas em painéis solares.
Agente fluorante: Pode ser usado como agente fluorante em várias reações químicas para introduzir átomos de flúor em moléculas orgânicas.
Considerações de segurança: Embora o NF3 não seja inflamável, ainda é importante manuseá-lo com cuidado e seguir as medidas de segurança adequadas.Pode deslocar o oxigénio em espaços confinadosDeve assegurar-se uma ventilação adequada quando se trabalha com o gás NF3 e devem ser seguidas as orientações e equipamentos de segurança adequados.
Ao manipular o gás NF3, recomenda-se seguir os protocolos de segurança, utilizar equipamentos de proteção adequados e assegurar uma boa ventilação na área de trabalho para manter um ambiente seguro.
Informações Básicas
| Pacote de transporte: | 47L, 440L | Ponto de fusão | -206,79oC |
| Marca comercial: | CMC | Ponto de ebulição | -129,0oC |
| Especificações | 100.00% | Capacidade de produção | 5000 toneladas/ano |
| Pressão do cilindro | 15 MPa/20 MPa | Válvula | Qf-30A/Cga350 |
| Aparência | Incolor, inodoro | Densidade | 20,96 Kg/m3 |
Especificações:
| Especificações | Padrão da empresa |
| NF3 | ≥ 99,996% |
| CF4 | ≤20 ppm |
| N2 | ≤5 ppm |
| O2+AR | ≤3 ppm |
| CO | ≤1 ppm |
| CO2 | ≤0.5 ppm |
| N2O | ≤1 ppm |
| SF6 | ≤2 ppm |
| Água | ≤1 ppm |
| Expresso em HF | ≤1 ppm |
Foto detalhada
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| MOQ: | 1 kg |
| preço: | US $500/kg |
| Embalagem padrão: | cilindro/tanque |
| Período de entrega: | 15 dias |
| Método do pagamento: | L/C, T/T |
| Capacidade de abastecimento: | 2000 toneladas/ano |
O gás NF3 refere-se ao trifluoreto de nitrogênio em seu estado gasoso.É comumente utilizado em várias aplicações industriais devido às suas propriedades únicasAqui estão alguns pontos-chave sobre o gás NF3:
Composição química: NF3 consiste de um átomo de nitrogênio (N) ligado a três átomos de flúor (F).
Propriedades físicas: O NF3 é um gás não inflamável com um ponto de ebulição de -129 graus Celsius (-200 graus Fahrenheit) e um ponto de fusão de -206 graus Celsius (-339 graus Fahrenheit).É ligeiramente mais densa que o ar e permanece em estado gasoso à temperatura ambiente e pressão atmosférica normal.
Utilizações: O gás NF3 tem várias aplicações industriais:
Fabricação de eletrônicos: É comumente usado na indústria eletrônica como agente de limpeza para remover resíduos de wafers de silício, câmaras,e outros componentes eletrónicos durante o processo de fabricoO gás NF3 é preferido devido à sua baixa reatividade com muitos materiais e à sua capacidade de remover de forma eficaz os compostos fluorados.
Gravação por plasma: O NF3 é utilizado como gravador de plasma na indústria de semicondutores.É usado para remover seletivamente materiais da superfície de wafers de silício e outros substratos durante a fabricação de microeletrônicos.
Fabricação de ecrãs de painel plano: O gás NF3 é também utilizado na produção de ecrãs de painel plano, como ecrãs de cristal líquido (LCD) e ecrãs de plasma.É usado para processos de limpeza e gravação durante a fabricação desses monitores.
Painéis solares: o NF3 encontra aplicação na produção de células fotovoltaicas de película fina utilizadas em painéis solares.
Agente fluorante: Pode ser usado como agente fluorante em várias reações químicas para introduzir átomos de flúor em moléculas orgânicas.
Considerações de segurança: Embora o NF3 não seja inflamável, ainda é importante manuseá-lo com cuidado e seguir as medidas de segurança adequadas.Pode deslocar o oxigénio em espaços confinadosDeve assegurar-se uma ventilação adequada quando se trabalha com o gás NF3 e devem ser seguidas as orientações e equipamentos de segurança adequados.
Ao manipular o gás NF3, recomenda-se seguir os protocolos de segurança, utilizar equipamentos de proteção adequados e assegurar uma boa ventilação na área de trabalho para manter um ambiente seguro.
Informações Básicas
| Pacote de transporte: | 47L, 440L | Ponto de fusão | -206,79oC |
| Marca comercial: | CMC | Ponto de ebulição | -129,0oC |
| Especificações | 100.00% | Capacidade de produção | 5000 toneladas/ano |
| Pressão do cilindro | 15 MPa/20 MPa | Válvula | Qf-30A/Cga350 |
| Aparência | Incolor, inodoro | Densidade | 20,96 Kg/m3 |
Especificações:
| Especificações | Padrão da empresa |
| NF3 | ≥ 99,996% |
| CF4 | ≤20 ppm |
| N2 | ≤5 ppm |
| O2+AR | ≤3 ppm |
| CO | ≤1 ppm |
| CO2 | ≤0.5 ppm |
| N2O | ≤1 ppm |
| SF6 | ≤2 ppm |
| Água | ≤1 ppm |
| Expresso em HF | ≤1 ppm |
Foto detalhada
