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Triclorosilano bom preço Indústria de semicondutores de alta pureza Aplicação Uso Sihcl3

Triclorosilano bom preço Indústria de semicondutores de alta pureza Aplicação Uso Sihcl3

MOQ: 1 kg
preço: US $500/kg
Embalagem padrão: cilindro/tanque
Período de entrega: 30 DIAS
Método do pagamento: L/C, T/T
Capacidade de abastecimento: 200 toneladas/ano
Informações detalhadas
Lugar de origem
China
Marca
CMC
Certificação
COA
Número do modelo
Sihcl3
Nome do produto:
Triclorosilano
Purificação:
99.99%
Grau:
Grau de elétrons
Transportes:
Por mar
Modelo N.O.:
Sihcl3
Pacote de transporte:
Navio-tanque
Especificações:
O cilindro em Y
Marca comercial:
CMC
Origem:
China
Código do SH:
2812190091
Habilidade da fonte:
500 toneladas/mês
Cas não.:
10025-78-2
Fórmula:
Sihcl3
EINECS:
7783-82-6
Constituinte:
Ar puro industrial
Padrão de classificação:
Grau industrial
Propriedade química:
GÁS NÃO-INFLAMÁVEL
Personalização:
Disponível
Quantidade de ordem mínima:
1 kg
Preço:
US $500/kg
Detalhes da embalagem:
cilindro/tanque
Tempo de entrega:
30 DIAS
Termos de pagamento:
L/C, T/T
Habilidade da fonte:
200 toneladas/ano
Destacar:

Frigorífico sob pressão de triclorosilano

,

Silíndrico sob pressão Sihcl3

,

Empresa de garrafas de gás de triclorosilano

Descrição do produto

Descrição do produto

O triclorosilano (SiHCl3) é um composto químico composto por um átomo de silício ligado a três átomos de cloro e um átomo de hidrogênio.Aqui estão alguns pontos-chave sobre o triclorosilano:

  1. Composição química: O triclorosilano consiste de um átomo de silício (Si) ligado a três átomos de cloro (Cl) e um átomo de hidrogênio (H).

  2. Propriedades: O triclorosilano é um líquido volátil com um ponto de ebulição de -30,8 graus Celsius (-23,4 graus Fahrenheit) e um ponto de fusão de -120,1 graus Celsius (-184,2 graus Fahrenheit).Tem um odor característico semelhante ao do ácido clorídrico.

  3. Produção: O triclorosilano é produzido principalmente através da reação do silício de grau metalúrgico (geralmente derivado do quartzo ou do dióxido de silício) com o gás cloreto de hidrogénio (HCl):

    Si + 3HCl → SiHCl3 + H2

    Esta reação ocorre tipicamente a altas temperaturas na presença de um catalisador, como o cobre, para facilitar a reação.

  4. Utilizações: O triclorosilano tem várias aplicações industriais:

    • Produção de silício: É um precursor chave na produção de silício policristalino, que é amplamente usado na fabricação de células solares, semicondutores e eletrônicos.

    • Síntese química: o triclorosilano é utilizado como material de partida ou intermediário na síntese de vários compostos à base de silício, incluindo silanos, silicones e silício de alta pureza.

    • Indústria de semicondutores: é usado como material de origem para o processo de deposição de vapor químico (CVD), onde o triclorosilano é decomposto para depositar camadas finas de silício em wafers de semicondutores.

    • Fabricação de fibras ópticas: o triclorosilano é utilizado na produção de vidro de sílica de alta pureza, essencial para as fibras ópticas e outros componentes ópticos.

  5. Considerações de segurança: O triclorosilano é inflamável e pode reagir violentamente com água ou umidade, liberando gás cloreto de hidrogênio.Precauções de segurança adequadas, tais como o uso de equipamento de protecção adequado e procedimentos de manipulação, devem ser seguidos quando se trabalha com triclorosilano.

É importante manipular o triclorosilano com cuidado e aderir às medidas de segurança para mitigar os riscos potenciais associados à sua reatividade e corrosão.

 

Informações básicas.

Número do modelo: SiHCl3 Qualidade Grau de elétrons
Pacote de transporte Círculo em Y, tambor em T, carregador de cargas Especificações 20L, 40L, 280L e personalizáveis
Marca comercial CMC Origem Suzhou, China
Código do SH 2812190091 Capacidade de produção 500 toneladas/mês

 

Especificações:


Triclorosilanoé um precursor de silício para filmes finos epitaxial contendo silício, especialmente para o
Preparação de wafers de partida.

China Wholesale High Purity Trichlorosilane Gas 99.99% 4n Sihcl3 GasFotos detalhadas
China Wholesale High Purity Trichlorosilane Gas 99.99% 4n Sihcl3 GasChina Wholesale High Purity Trichlorosilane Gas 99.99% 4n Sihcl3 Gas


 

Perfil da empresa

China Wholesale High Purity Trichlorosilane Gas 99.99% 4n Sihcl3 Gas

Shanghai Kemike Chemical Co., Ltd é composta por pessoal treinado, combinar muitos anos de experiência na indústria de gás.Nós fornecemos cilindro de gás, gás eletrônico, etc. e o suporte de gás, painel,Válvulas e acessórios e outros equipamentos, peças e serviços de engenharia para os nossos clientes na China e em todo o mundo; Os produtos estão envolvidos em vários campos industriais, tais como chips de semicondutores, células solares, LED, TFT-LCD, fibra óptica,vidroA nossa missão é colaborar com os nossos clientes globais para fornecer apoio, soluções e produtos de qualidade que sejam inovadores, fiáveis e seguros.
Os nossos produtos incluem principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetileno, hélio, gás misto a laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gás misto dopante (TMB, PH3,B2H6) e outros gases electrónicos.

China Wholesale High Purity Trichlorosilane Gas 99.99% 4n Sihcl3 Gas
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Triclorosilano bom preço Indústria de semicondutores de alta pureza Aplicação Uso Sihcl3
MOQ: 1 kg
preço: US $500/kg
Embalagem padrão: cilindro/tanque
Período de entrega: 30 DIAS
Método do pagamento: L/C, T/T
Capacidade de abastecimento: 200 toneladas/ano
Informações detalhadas
Lugar de origem
China
Marca
CMC
Certificação
COA
Número do modelo
Sihcl3
Nome do produto:
Triclorosilano
Purificação:
99.99%
Grau:
Grau de elétrons
Transportes:
Por mar
Modelo N.O.:
Sihcl3
Pacote de transporte:
Navio-tanque
Especificações:
O cilindro em Y
Marca comercial:
CMC
Origem:
China
Código do SH:
2812190091
Habilidade da fonte:
500 toneladas/mês
Cas não.:
10025-78-2
Fórmula:
Sihcl3
EINECS:
7783-82-6
Constituinte:
Ar puro industrial
Padrão de classificação:
Grau industrial
Propriedade química:
GÁS NÃO-INFLAMÁVEL
Personalização:
Disponível
Quantidade de ordem mínima:
1 kg
Preço:
US $500/kg
Detalhes da embalagem:
cilindro/tanque
Tempo de entrega:
30 DIAS
Termos de pagamento:
L/C, T/T
Habilidade da fonte:
200 toneladas/ano
Destacar

Frigorífico sob pressão de triclorosilano

,

Silíndrico sob pressão Sihcl3

,

Empresa de garrafas de gás de triclorosilano

Descrição do produto

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O triclorosilano (SiHCl3) é um composto químico composto por um átomo de silício ligado a três átomos de cloro e um átomo de hidrogênio.Aqui estão alguns pontos-chave sobre o triclorosilano:

  1. Composição química: O triclorosilano consiste de um átomo de silício (Si) ligado a três átomos de cloro (Cl) e um átomo de hidrogênio (H).

  2. Propriedades: O triclorosilano é um líquido volátil com um ponto de ebulição de -30,8 graus Celsius (-23,4 graus Fahrenheit) e um ponto de fusão de -120,1 graus Celsius (-184,2 graus Fahrenheit).Tem um odor característico semelhante ao do ácido clorídrico.

  3. Produção: O triclorosilano é produzido principalmente através da reação do silício de grau metalúrgico (geralmente derivado do quartzo ou do dióxido de silício) com o gás cloreto de hidrogénio (HCl):

    Si + 3HCl → SiHCl3 + H2

    Esta reação ocorre tipicamente a altas temperaturas na presença de um catalisador, como o cobre, para facilitar a reação.

  4. Utilizações: O triclorosilano tem várias aplicações industriais:

    • Produção de silício: É um precursor chave na produção de silício policristalino, que é amplamente usado na fabricação de células solares, semicondutores e eletrônicos.

    • Síntese química: o triclorosilano é utilizado como material de partida ou intermediário na síntese de vários compostos à base de silício, incluindo silanos, silicones e silício de alta pureza.

    • Indústria de semicondutores: é usado como material de origem para o processo de deposição de vapor químico (CVD), onde o triclorosilano é decomposto para depositar camadas finas de silício em wafers de semicondutores.

    • Fabricação de fibras ópticas: o triclorosilano é utilizado na produção de vidro de sílica de alta pureza, essencial para as fibras ópticas e outros componentes ópticos.

  5. Considerações de segurança: O triclorosilano é inflamável e pode reagir violentamente com água ou umidade, liberando gás cloreto de hidrogênio.Precauções de segurança adequadas, tais como o uso de equipamento de protecção adequado e procedimentos de manipulação, devem ser seguidos quando se trabalha com triclorosilano.

É importante manipular o triclorosilano com cuidado e aderir às medidas de segurança para mitigar os riscos potenciais associados à sua reatividade e corrosão.

 

Informações básicas.

Número do modelo: SiHCl3 Qualidade Grau de elétrons
Pacote de transporte Círculo em Y, tambor em T, carregador de cargas Especificações 20L, 40L, 280L e personalizáveis
Marca comercial CMC Origem Suzhou, China
Código do SH 2812190091 Capacidade de produção 500 toneladas/mês

 

Especificações:


Triclorosilanoé um precursor de silício para filmes finos epitaxial contendo silício, especialmente para o
Preparação de wafers de partida.

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China Wholesale High Purity Trichlorosilane Gas 99.99% 4n Sihcl3 GasChina Wholesale High Purity Trichlorosilane Gas 99.99% 4n Sihcl3 Gas


 

Perfil da empresa

China Wholesale High Purity Trichlorosilane Gas 99.99% 4n Sihcl3 Gas

Shanghai Kemike Chemical Co., Ltd é composta por pessoal treinado, combinar muitos anos de experiência na indústria de gás.Nós fornecemos cilindro de gás, gás eletrônico, etc. e o suporte de gás, painel,Válvulas e acessórios e outros equipamentos, peças e serviços de engenharia para os nossos clientes na China e em todo o mundo; Os produtos estão envolvidos em vários campos industriais, tais como chips de semicondutores, células solares, LED, TFT-LCD, fibra óptica,vidroA nossa missão é colaborar com os nossos clientes globais para fornecer apoio, soluções e produtos de qualidade que sejam inovadores, fiáveis e seguros.
Os nossos produtos incluem principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetileno, hélio, gás misto a laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gás misto dopante (TMB, PH3,B2H6) e outros gases electrónicos.

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