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Um precursor chave no processo de deposição química de vapor (CVD) Gás hexafluoreto de tungstênio

Um precursor chave no processo de deposição química de vapor (CVD) Gás hexafluoreto de tungstênio

MOQ: 1 peça
preço: US $ 15/PC
Embalagem padrão: cilindro/tanque
Período de entrega: 15 dias
Método do pagamento: L/C, T/T
Capacidade de abastecimento: 200 toneladas/ano
Informações detalhadas
Lugar de origem
China
Marca
CMC
Certificação
COA
Número do modelo
Wf6
Nome do produto:
Hexafluoreto de tungsténio
Transportes:
Por mar
Purificação:
99.999%
Aparência:
Não colorido
Número do modelo.:
Hexafluoreto de tungsténio
Pacote de transporte:
Transporte do mar
Especificações:
10 L/15 kg
Marca comercial:
CMC
Origem:
Suzhou, China
Código do SH:
2804290000
Habilidade da fonte:
200 t/ano
Número CAS.:
7783-82-6
Fórmula:
Wf6
EINECS:
232-029-1
Constituinte:
Ar puro industrial
Padrão de classificação:
Categoria industrial
Propriedade química:
Gás de apoio à combustão
Personalização:
Disponível
Quantidade de ordem mínima:
1 peça
Preço:
US $ 15/PC
Detalhes da embalagem:
cilindro/tanque
Tempo de entrega:
15 dias
Termos de pagamento:
L/C, T/T
Habilidade da fonte:
200 toneladas/ano
Descrição do produto

Descrição do produto

O gás hexafluoreto de tungstênio, também conhecido como WF6, é um composto composto por átomos de tungstênio (W) e flúor (F).Aqui estão alguns pontos-chave sobre o gás hexafluoreto de tungstênio:

  1. Fórmula química: WF6
  2. Peso molecular: 297,84 g/mol
  3. Propriedades físicas: o hexafluoreto de tungstênio é um gás denso com um ponto de ebulição de aproximadamente 17,1 °C (62,8 °F) e um ponto de fusão de -2,5 °C (27,5 °F).É solúvel em solventes orgânicos como benzeno e tetracloreto de carbono.
  4. Reatividade: O WF6 é altamente reativo e reage facilmente com o vapor de água no ar para formar ácido tungstico e ácido fluorídrico, que são corrosivos.,e halogenetos metálicos.
  5. Aplicações: O hexafluoreto de tungstênio é usado principalmente na indústria de semicondutores para a deposição de películas finas de tungstênio durante a fabricação de circuitos integrados.É um precursor chave no processo de deposição química de vapor (CVD), o que permite o crescimento controlado de camadas de tungstênio com alta pureza e uniformidade.
  6. Considerações de segurança: o WF6 é corrosivo e tóxico. Pode causar queimaduras graves em contacto com a pele, os olhos ou o sistema respiratório.Incluindo o uso de equipamentos de proteção individual adequados e procedimentos de manuseio, devem ser seguidas quando se trabalha com ou manuseia este gás.
  7. Armazenamento e manuseio: O hexafluoreto de tungstênio é normalmente armazenado em cilindros de alta pressão ou como um líquido sob pressão.São necessárias instalações de armazenamento e manuseio especializadas devido à sua reatividade e corrosão..

É importante notar que o hexafluoreto de tungsténio deve ser manuseado por profissionais treinados em ambientes controlados.Acompanhamento das directrizes e regulamentos de segurança para assegurar a utilização adequada e prevenir acidentes ou efeitos adversos para a saúde.

Informações básicas.

Modelo N.O. WF6 Pacote de transporte Frigorífico
Especificações 10 L/15 kg Marca comercial CMC
Origem Suzhou, China Código do SH 2812190091
Capacidade de produção 200 t/ano    
 
 
Especificações do produto:

GAS de hexafluoreto de tungstênio WF6
Número CAS: 7783-82-6
EINECS n.o: 232-029-1
Número da ONU: UN2196
Pureza: 99,999%
Classe de pontos: 2.3
Aparência: incolor
Padrão de grau: grau de elétron, grau industrial

O COA do produto:
 
Elementos de ensaio Unidades Requisitos de qualidade Resultados dos ensaios
CF4 ppm < 0.5 < 0.01
O2 ppm < 0.5 < 0.01
N2 ppm < 1 0.03
CO ppm < 0.5 < 0.02
CO2 ppm < 0.5 < 0.01
SiF4 ppm < 0.5 < 0.1
SF6 ppm < 0.5 < 0.1
HF ppm < 5 0.19
Al ppb ≤ 10 < 0.020
Como ppb ≤ 10 < 0.001
B ppb ≤ 10 < 0.005
Ca ppb ≤ 5 < 0.200
Cd ppb ≤ 2 < 0.001
Cr ppb ≤ 10 < 0.020
Fe ppb ≤ 10 < 0.007
K ppb ≤ 5 < 0.100
- Não ppb ≤ 10 < 0.001
Não. ppb ≤ 5 < 0.040
- Não. ppb ≤ 0.1 < 0.001
Ti ppb ≤ 10 < 0.002
Li ppb ≤ 10 < 0.002
U ppb ≤ 0.05 < 0.001
Zn ppb ≤ 10 < 0.005
Sim ppb ≤ 10 < 0.100
Pb ppb ≤ 10 < 0.001
P ppb ≤ 2 < 0.300
Mg ppb ≤ 10 < 0.020
Não. ppb ≤ 20 < 0.030
Cu ppb ≤ 5 < 0.005
Mo. ppb ≤ 10 < 0.001
Impuridades totais de outros metais ppb ≤ 500 < 0.0010
 

Fotos detalhadas

Um precursor chave no processo de deposição química de vapor (CVD) Gás hexafluoreto de tungstênio 0
Um precursor chave no processo de deposição química de vapor (CVD) Gás hexafluoreto de tungstênio 1
Perfil da empresa

Um precursor chave no processo de deposição química de vapor (CVD) Gás hexafluoreto de tungstênio 2

Shanghai Kemike Chemical Co., Ltd é composta por pessoal treinado, combinar muitos anos de experiência na indústria de gás.Nós fornecemos cilindro de gás, gás eletrônico, etc. e o suporte de gás, painel,Válvulas e acessórios e outros equipamentos, peças e serviços de engenharia para os nossos clientes na China e em todo o mundo; Os produtos estão envolvidos em vários campos industriais, tais como chips de semicondutores, células solares, LED, TFT-LCD, fibra óptica,vidroA nossa missão é colaborar com os nossos clientes globais para fornecer apoio, soluções e produtos de qualidade que sejam inovadores, fiáveis e seguros.
Os nossos produtos incluem principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetileno, hélio, gás misto a laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gás misto dopante (TMB, PH3,B2H6) e outros gases electrónicos.
Um precursor chave no processo de deposição química de vapor (CVD) Gás hexafluoreto de tungstênio 3
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Um precursor chave no processo de deposição química de vapor (CVD) Gás hexafluoreto de tungstênio
MOQ: 1 peça
preço: US $ 15/PC
Embalagem padrão: cilindro/tanque
Período de entrega: 15 dias
Método do pagamento: L/C, T/T
Capacidade de abastecimento: 200 toneladas/ano
Informações detalhadas
Lugar de origem
China
Marca
CMC
Certificação
COA
Número do modelo
Wf6
Nome do produto:
Hexafluoreto de tungsténio
Transportes:
Por mar
Purificação:
99.999%
Aparência:
Não colorido
Número do modelo.:
Hexafluoreto de tungsténio
Pacote de transporte:
Transporte do mar
Especificações:
10 L/15 kg
Marca comercial:
CMC
Origem:
Suzhou, China
Código do SH:
2804290000
Habilidade da fonte:
200 t/ano
Número CAS.:
7783-82-6
Fórmula:
Wf6
EINECS:
232-029-1
Constituinte:
Ar puro industrial
Padrão de classificação:
Categoria industrial
Propriedade química:
Gás de apoio à combustão
Personalização:
Disponível
Quantidade de ordem mínima:
1 peça
Preço:
US $ 15/PC
Detalhes da embalagem:
cilindro/tanque
Tempo de entrega:
15 dias
Termos de pagamento:
L/C, T/T
Habilidade da fonte:
200 toneladas/ano
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Descrição do produto

O gás hexafluoreto de tungstênio, também conhecido como WF6, é um composto composto por átomos de tungstênio (W) e flúor (F).Aqui estão alguns pontos-chave sobre o gás hexafluoreto de tungstênio:

  1. Fórmula química: WF6
  2. Peso molecular: 297,84 g/mol
  3. Propriedades físicas: o hexafluoreto de tungstênio é um gás denso com um ponto de ebulição de aproximadamente 17,1 °C (62,8 °F) e um ponto de fusão de -2,5 °C (27,5 °F).É solúvel em solventes orgânicos como benzeno e tetracloreto de carbono.
  4. Reatividade: O WF6 é altamente reativo e reage facilmente com o vapor de água no ar para formar ácido tungstico e ácido fluorídrico, que são corrosivos.,e halogenetos metálicos.
  5. Aplicações: O hexafluoreto de tungstênio é usado principalmente na indústria de semicondutores para a deposição de películas finas de tungstênio durante a fabricação de circuitos integrados.É um precursor chave no processo de deposição química de vapor (CVD), o que permite o crescimento controlado de camadas de tungstênio com alta pureza e uniformidade.
  6. Considerações de segurança: o WF6 é corrosivo e tóxico. Pode causar queimaduras graves em contacto com a pele, os olhos ou o sistema respiratório.Incluindo o uso de equipamentos de proteção individual adequados e procedimentos de manuseio, devem ser seguidas quando se trabalha com ou manuseia este gás.
  7. Armazenamento e manuseio: O hexafluoreto de tungstênio é normalmente armazenado em cilindros de alta pressão ou como um líquido sob pressão.São necessárias instalações de armazenamento e manuseio especializadas devido à sua reatividade e corrosão..

É importante notar que o hexafluoreto de tungsténio deve ser manuseado por profissionais treinados em ambientes controlados.Acompanhamento das directrizes e regulamentos de segurança para assegurar a utilização adequada e prevenir acidentes ou efeitos adversos para a saúde.

Informações básicas.

Modelo N.O. WF6 Pacote de transporte Frigorífico
Especificações 10 L/15 kg Marca comercial CMC
Origem Suzhou, China Código do SH 2812190091
Capacidade de produção 200 t/ano    
 
 
Especificações do produto:

GAS de hexafluoreto de tungstênio WF6
Número CAS: 7783-82-6
EINECS n.o: 232-029-1
Número da ONU: UN2196
Pureza: 99,999%
Classe de pontos: 2.3
Aparência: incolor
Padrão de grau: grau de elétron, grau industrial

O COA do produto:
 
Elementos de ensaio Unidades Requisitos de qualidade Resultados dos ensaios
CF4 ppm < 0.5 < 0.01
O2 ppm < 0.5 < 0.01
N2 ppm < 1 0.03
CO ppm < 0.5 < 0.02
CO2 ppm < 0.5 < 0.01
SiF4 ppm < 0.5 < 0.1
SF6 ppm < 0.5 < 0.1
HF ppm < 5 0.19
Al ppb ≤ 10 < 0.020
Como ppb ≤ 10 < 0.001
B ppb ≤ 10 < 0.005
Ca ppb ≤ 5 < 0.200
Cd ppb ≤ 2 < 0.001
Cr ppb ≤ 10 < 0.020
Fe ppb ≤ 10 < 0.007
K ppb ≤ 5 < 0.100
- Não ppb ≤ 10 < 0.001
Não. ppb ≤ 5 < 0.040
- Não. ppb ≤ 0.1 < 0.001
Ti ppb ≤ 10 < 0.002
Li ppb ≤ 10 < 0.002
U ppb ≤ 0.05 < 0.001
Zn ppb ≤ 10 < 0.005
Sim ppb ≤ 10 < 0.100
Pb ppb ≤ 10 < 0.001
P ppb ≤ 2 < 0.300
Mg ppb ≤ 10 < 0.020
Não. ppb ≤ 20 < 0.030
Cu ppb ≤ 5 < 0.005
Mo. ppb ≤ 10 < 0.001
Impuridades totais de outros metais ppb ≤ 500 < 0.0010
 

Fotos detalhadas

Um precursor chave no processo de deposição química de vapor (CVD) Gás hexafluoreto de tungstênio 0
Um precursor chave no processo de deposição química de vapor (CVD) Gás hexafluoreto de tungstênio 1
Perfil da empresa

Um precursor chave no processo de deposição química de vapor (CVD) Gás hexafluoreto de tungstênio 2

Shanghai Kemike Chemical Co., Ltd é composta por pessoal treinado, combinar muitos anos de experiência na indústria de gás.Nós fornecemos cilindro de gás, gás eletrônico, etc. e o suporte de gás, painel,Válvulas e acessórios e outros equipamentos, peças e serviços de engenharia para os nossos clientes na China e em todo o mundo; Os produtos estão envolvidos em vários campos industriais, tais como chips de semicondutores, células solares, LED, TFT-LCD, fibra óptica,vidroA nossa missão é colaborar com os nossos clientes globais para fornecer apoio, soluções e produtos de qualidade que sejam inovadores, fiáveis e seguros.
Os nossos produtos incluem principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetileno, hélio, gás misto a laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gás misto dopante (TMB, PH3,B2H6) e outros gases electrónicos.
Um precursor chave no processo de deposição química de vapor (CVD) Gás hexafluoreto de tungstênio 3
Um precursor chave no processo de deposição química de vapor (CVD) Gás hexafluoreto de tungstênio 4
 
 
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