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Agente fluorante Deposição química de vapores (CVD) ProcessosIndústria de semicondutores Utilização Hexafluoreto de tungstênio

Agente fluorante Deposição química de vapores (CVD) ProcessosIndústria de semicondutores Utilização Hexafluoreto de tungstênio

MOQ: 1 peça
preço: US $ 15/PC
Embalagem padrão: cilindro/tanque
Período de entrega: 15 dias
Método do pagamento: L/C, T/T
Capacidade de abastecimento: 200 toneladas/ano
Informações detalhadas
Lugar de origem
China
Marca
CMC
Certificação
COA
Número do modelo
Wf6
Nome do produto:
Hexafluoreto de tungsténio
Purificação:
99.999%
aparência:
Não colorido
Classe DOT:
2.3
Un Não:
Un2196
Eincs Não:
7783-82-6
Pacote de transporte:
200 t/ano
Especificações:
200 t/ano
Marca comercial:
CMC
Origem:
China
Código do SH:
2812190091
Habilidade da fonte:
200 t/ano
CAS NO.:
7783-82-6
Fórmula:
Wf6
EINECS:
232-029-1
Constituinte:
Ar puro industrial
Padrão de classificação:
Grau industrial
Propriedade química:
Gás de apoio à combustão
Personalização:
Disponível
Quantidade de ordem mínima:
1 peça
Preço:
US $ 15/PC
Detalhes da embalagem:
cilindro/tanque
Tempo de entrega:
15 dias
Termos de pagamento:
L/C, T/T
Habilidade da fonte:
200 toneladas/ano
Descrição do produto

Descrição do produto

O hexafluoreto de tungstênio (WF6) é um composto químico composto por um átomo de tungstênio ligado a seis átomos de flúor.Aqui estão alguns aspectos-chave do gás hexafluoreto de tungstênio:

  1. Fórmula e Estrutura: A fórmula química do hexafluoreto de tungstênio é WF6.com o átomo de tungstênio no centro e os átomos de flúor dispostos em torno dele.

  2. Propriedades físicas: O hexafluoreto de tungstênio é um gás a temperatura e pressão padrão (STP).É mais densa que o ar., com uma densidade de cerca de 13,1 g/l.

  3. Reatividade: O WF6 é extremamente reativo e reage facilmente com uma ampla gama de substâncias, incluindo água, oxigénio e muitos compostos orgânicos.O que significa que pode aceitar facilmente elétrons de outras substâncias.Pode reagir violentamente com a água, liberando ácido fluorídrico corrosivo e óxido de tungsténio.

  4. Utilizações: O hexafluoreto de tungstênio encontra aplicações em vários processos industriais e atividades de pesquisa.

    • Deposição química por vapor (CVD): o WF6 é usado no processo CVD para depositar finas películas de tungstênio em superfícies.Esta técnica é utilizada na indústria da microeletrónica para a fabricação de circuitos integrados e outros componentes electrónicos.

    • Deposição de vapor químico orgânico metálico (MOCVD): o WF6 é utilizado em processos MOCVD para depositar películas finas de tungstênio para aplicações em revestimentos ópticos, dispositivos de semicondutores,e outras aplicações de película fina.

    • Rodas de controlo de reatores nucleares: o hexafluoreto de tungsténio pode ser utilizado como precursor para a produção de rodas de controlo de tungsténio utilizadas em reatores nucleares.

    • Laboratório e Pesquisa: É usado em várias aplicações de pesquisa, como o estudo de reações químicas, catalisadores e como precursor na síntese de outros compostos de tungstênio.

  5. Considerações de segurança: o hexafluoreto de tungstênio é altamente tóxico e corrosivo.que podem causar queimaduras graves e danos nos tecidosDevem ser seguidas precauções de segurança adequadas, incluindo o uso de equipamento de protecção e procedimentos de manuseamento, quando se trabalha com este composto.

É importante notar que as informações aqui fornecidas se baseiam em conhecimentos gerais, e aplicações específicas ou considerações de segurança podem variar dependendo do contexto e da utilização pretendida.Consulte sempre fontes confiáveis e siga os protocolos de segurança apropriados ao trabalhar com qualquer composto químico.

Especificações do produto:

GAS de hexafluoreto de tungstênio WF6
Número CAS: 7783-82-6
EINECS n.o: 232-029-1
Número da ONU: UN2196
Pureza: 99,999%
Classe de pontos: 2.3
Aparência: incolor
Padrão de grau: grau de elétron, grau industrial

O COA do produto:
 
Elementos de ensaio Unidades Requisitos de qualidade Resultados dos ensaios
CF4 ppm < 0.5 < 0.01
O2 ppm < 0.5 < 0.01
N2 ppm < 1 0.03
CO ppm < 0.5 < 0.02
CO2 ppm < 0.5 < 0.01
SiF4 ppm < 0.5 < 0.1
SF6 ppm < 0.5 < 0.1
HF ppm < 5 0.19
Al ppb ≤ 10 < 0.020
Como ppb ≤ 10 < 0.001
B ppb ≤ 10 < 0.005
Ca ppb ≤ 5 < 0.200
Cd ppb ≤ 2 < 0.001
Cr ppb ≤ 10 < 0.020
Fe ppb ≤ 10 < 0.007
K ppb ≤ 5 < 0.100
- Não ppb ≤ 10 < 0.001
Não. ppb ≤ 5 < 0.040
- Não. ppb ≤ 0.1 < 0.001
Ti ppb ≤ 10 < 0.002
Li ppb ≤ 10 < 0.002
U ppb ≤ 0.05 < 0.001
Zn ppb ≤ 10 < 0.005
Sim ppb ≤ 10 < 0.100
Pb ppb ≤ 10 < 0.001
P ppb ≤ 2 < 0.300
Mg ppb ≤ 10 < 0.020
Não. ppb ≤ 20 < 0.030
Cu ppb ≤ 5 < 0.005
Mo. ppb ≤ 10 < 0.001
Impuridades totais de outros metais ppb ≤ 500 < 0.0010
 

Fotos detalhadas


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Perfil da empresa

Agente fluorante Deposição química de vapores (CVD) ProcessosIndústria de semicondutores Utilização Hexafluoreto de tungstênio 1

Shanghai Kemike Chemical Co., Ltd é composta por pessoal treinado, combinar muitos anos de experiência na indústria de gás.Nós fornecemos cilindro de gás, gás eletrônico, etc. e o suporte de gás, painel,Válvulas e acessórios e outros equipamentos, peças e serviços de engenharia para os nossos clientes na China e em todo o mundo; Os produtos estão envolvidos em vários campos industriais, tais como chips de semicondutores, células solares, LED, TFT-LCD, fibra óptica,vidroA nossa missão é colaborar com os nossos clientes globais para fornecer apoio, soluções e produtos de qualidade que sejam inovadores, fiáveis e seguros.
Os nossos produtos incluem principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetileno, hélio, gás misto a laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gás misto dopante (TMB, PH3,B2H6) e outros gases electrónicos.
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Detalhes dos produtos
Agente fluorante Deposição química de vapores (CVD) ProcessosIndústria de semicondutores Utilização Hexafluoreto de tungstênio
MOQ: 1 peça
preço: US $ 15/PC
Embalagem padrão: cilindro/tanque
Período de entrega: 15 dias
Método do pagamento: L/C, T/T
Capacidade de abastecimento: 200 toneladas/ano
Informações detalhadas
Lugar de origem
China
Marca
CMC
Certificação
COA
Número do modelo
Wf6
Nome do produto:
Hexafluoreto de tungsténio
Purificação:
99.999%
aparência:
Não colorido
Classe DOT:
2.3
Un Não:
Un2196
Eincs Não:
7783-82-6
Pacote de transporte:
200 t/ano
Especificações:
200 t/ano
Marca comercial:
CMC
Origem:
China
Código do SH:
2812190091
Habilidade da fonte:
200 t/ano
CAS NO.:
7783-82-6
Fórmula:
Wf6
EINECS:
232-029-1
Constituinte:
Ar puro industrial
Padrão de classificação:
Grau industrial
Propriedade química:
Gás de apoio à combustão
Personalização:
Disponível
Quantidade de ordem mínima:
1 peça
Preço:
US $ 15/PC
Detalhes da embalagem:
cilindro/tanque
Tempo de entrega:
15 dias
Termos de pagamento:
L/C, T/T
Habilidade da fonte:
200 toneladas/ano
Descrição do produto

Descrição do produto

O hexafluoreto de tungstênio (WF6) é um composto químico composto por um átomo de tungstênio ligado a seis átomos de flúor.Aqui estão alguns aspectos-chave do gás hexafluoreto de tungstênio:

  1. Fórmula e Estrutura: A fórmula química do hexafluoreto de tungstênio é WF6.com o átomo de tungstênio no centro e os átomos de flúor dispostos em torno dele.

  2. Propriedades físicas: O hexafluoreto de tungstênio é um gás a temperatura e pressão padrão (STP).É mais densa que o ar., com uma densidade de cerca de 13,1 g/l.

  3. Reatividade: O WF6 é extremamente reativo e reage facilmente com uma ampla gama de substâncias, incluindo água, oxigénio e muitos compostos orgânicos.O que significa que pode aceitar facilmente elétrons de outras substâncias.Pode reagir violentamente com a água, liberando ácido fluorídrico corrosivo e óxido de tungsténio.

  4. Utilizações: O hexafluoreto de tungstênio encontra aplicações em vários processos industriais e atividades de pesquisa.

    • Deposição química por vapor (CVD): o WF6 é usado no processo CVD para depositar finas películas de tungstênio em superfícies.Esta técnica é utilizada na indústria da microeletrónica para a fabricação de circuitos integrados e outros componentes electrónicos.

    • Deposição de vapor químico orgânico metálico (MOCVD): o WF6 é utilizado em processos MOCVD para depositar películas finas de tungstênio para aplicações em revestimentos ópticos, dispositivos de semicondutores,e outras aplicações de película fina.

    • Rodas de controlo de reatores nucleares: o hexafluoreto de tungsténio pode ser utilizado como precursor para a produção de rodas de controlo de tungsténio utilizadas em reatores nucleares.

    • Laboratório e Pesquisa: É usado em várias aplicações de pesquisa, como o estudo de reações químicas, catalisadores e como precursor na síntese de outros compostos de tungstênio.

  5. Considerações de segurança: o hexafluoreto de tungstênio é altamente tóxico e corrosivo.que podem causar queimaduras graves e danos nos tecidosDevem ser seguidas precauções de segurança adequadas, incluindo o uso de equipamento de protecção e procedimentos de manuseamento, quando se trabalha com este composto.

É importante notar que as informações aqui fornecidas se baseiam em conhecimentos gerais, e aplicações específicas ou considerações de segurança podem variar dependendo do contexto e da utilização pretendida.Consulte sempre fontes confiáveis e siga os protocolos de segurança apropriados ao trabalhar com qualquer composto químico.

Especificações do produto:

GAS de hexafluoreto de tungstênio WF6
Número CAS: 7783-82-6
EINECS n.o: 232-029-1
Número da ONU: UN2196
Pureza: 99,999%
Classe de pontos: 2.3
Aparência: incolor
Padrão de grau: grau de elétron, grau industrial

O COA do produto:
 
Elementos de ensaio Unidades Requisitos de qualidade Resultados dos ensaios
CF4 ppm < 0.5 < 0.01
O2 ppm < 0.5 < 0.01
N2 ppm < 1 0.03
CO ppm < 0.5 < 0.02
CO2 ppm < 0.5 < 0.01
SiF4 ppm < 0.5 < 0.1
SF6 ppm < 0.5 < 0.1
HF ppm < 5 0.19
Al ppb ≤ 10 < 0.020
Como ppb ≤ 10 < 0.001
B ppb ≤ 10 < 0.005
Ca ppb ≤ 5 < 0.200
Cd ppb ≤ 2 < 0.001
Cr ppb ≤ 10 < 0.020
Fe ppb ≤ 10 < 0.007
K ppb ≤ 5 < 0.100
- Não ppb ≤ 10 < 0.001
Não. ppb ≤ 5 < 0.040
- Não. ppb ≤ 0.1 < 0.001
Ti ppb ≤ 10 < 0.002
Li ppb ≤ 10 < 0.002
U ppb ≤ 0.05 < 0.001
Zn ppb ≤ 10 < 0.005
Sim ppb ≤ 10 < 0.100
Pb ppb ≤ 10 < 0.001
P ppb ≤ 2 < 0.300
Mg ppb ≤ 10 < 0.020
Não. ppb ≤ 20 < 0.030
Cu ppb ≤ 5 < 0.005
Mo. ppb ≤ 10 < 0.001
Impuridades totais de outros metais ppb ≤ 500 < 0.0010
 

Fotos detalhadas


Agente fluorante Deposição química de vapores (CVD) ProcessosIndústria de semicondutores Utilização Hexafluoreto de tungstênio 0
 

Perfil da empresa

Agente fluorante Deposição química de vapores (CVD) ProcessosIndústria de semicondutores Utilização Hexafluoreto de tungstênio 1

Shanghai Kemike Chemical Co., Ltd é composta por pessoal treinado, combinar muitos anos de experiência na indústria de gás.Nós fornecemos cilindro de gás, gás eletrônico, etc. e o suporte de gás, painel,Válvulas e acessórios e outros equipamentos, peças e serviços de engenharia para os nossos clientes na China e em todo o mundo; Os produtos estão envolvidos em vários campos industriais, tais como chips de semicondutores, células solares, LED, TFT-LCD, fibra óptica,vidroA nossa missão é colaborar com os nossos clientes globais para fornecer apoio, soluções e produtos de qualidade que sejam inovadores, fiáveis e seguros.
Os nossos produtos incluem principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetileno, hélio, gás misto a laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gás misto dopante (TMB, PH3,B2H6) e outros gases electrónicos.
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